高科技領域正日益精密和復雜。對于LSI和LCD等產品生產過程中所需的嚴

格無塵環(huán)境而言，高效擦拭布是必備要素。Savina MX能夠輕松滿足時代需求，具有出色的功能，足以應對超級無塵室中的極端無塵條件。

無塵室中所使用的擦拭布應當能夠清潔所有儀器、器械和外圍設備，同時不會造成污染。擦拭布還要能夠吸收并清除多余的水分。Savina MX具備此類擦拭布所需的所有屬性，是性能Z好的擦拭布之一，專為高科技時代而設計。

超級高收縮、高密度整理產品

 

                                                                   

                                                                              Savina MX的橫截面

                                                                   

                                                                              Savina MX的表面

Savina MX在專門的細針距針織機上編制而成，其坯布橫向和縱向的收縮率均達到其原始尺寸的40%。它未經任何粘合劑處理，就達到了這樣的致密結構。所得擦拭布表面積高達25,700 c㎡/g，從而確保了在不掉毛的情況下清除灰塵。而傳統(tǒng)擦拭布的表面積僅為2,420 c㎡/g

特　色

• 掉毛量極少。
• 迅速而積極地吸收并留住水分。
• 殘留離子和其他物質的溶解率較低。
• 具備高端的擦拭布性能（灰塵清除量最大，同時不會污染無塵室設備）。

用　途

• 光磁盤、硬盤和軟盤的生產過程
• 液晶偏轉板以及其他物品的生產過程
• 光盤和磁盤的生產過程
• 錄像機的生產過程
• 隱形眼鏡的生產過程
• 相機裝配線
• 印刷電路板的清潔工藝
• 相機鏡頭鍍膜前的清潔工藝
• 藥品生產線清潔工藝
• 電Y膠片清潔工藝
• 半導體和基礎電路的生產過程
• 精密涂層之前工件的清潔過程

規(guī)格/包裝：24cm x 24cm   10片/小包    100片/大包

                     15cm x 15cm   100片/小包   200片/大包

15cm x 15cm   100片/小包   200片/大包

24cm x 24cm   10片/小包    100片/大包